高性能硅酸鋯具備增白和穩(wěn)定兩個條件時，在硅酸鋯粉體、粒子形貌、粒徑范圍、介質(zhì)中分散性能以及磚坯或釉面應用后乳濁性偏析等性能都優(yōu)于常規(guī)硅酸鋯。 硅酸鋯的增白作用是因其在陶瓷燒成后形成斜鋯石等，從而對入射光波形成散射，這種散射一般稱之為大粒子散射或米氏散射（MieScattering)。結(jié)合理論計算及粉體生產(chǎn)實際情況，將高性能硅酸鋯的d50值控制在1.4um以下、d90控制在4.0um以下（以日本產(chǎn)激光顆粒分析儀測定值為準），將會產(chǎn)生較佳乳濁增白效果。硅酸鋯的增白作用中，集中的粒徑范圍很重要，要求在硅酸鋯的研磨過程中盡可能做到顆粒的窄分布。 硅酸鋯生產(chǎn)中有許多雜質(zhì)，這些雜質(zhì)可分為：１、有害雜質(zhì)Fe2O3、TiO2和Al2O3，一般的硅酸鋯生產(chǎn)企業(yè)都有能力將鐵雜質(zhì)去除，但TiO2和Al2O3去除難度較大；２、基本無害雜質(zhì)SiO2和HfO2（氧化鉿），這種雜質(zhì)是指在含量范圍內(nèi)基本無害，而超過這一范圍不但有害，而且對陶瓷釉面及坯體產(chǎn)生極大影響，如SiO2越標時釉面易出現(xiàn)后期炸裂，極易達不到國家檢驗標準；３、微量堿雜質(zhì)Na2O、K2O和P2O5，這些雜質(zhì)因為其含量很少，且屬于有助熔作用的氧化物，即使有時超標，也不會對產(chǎn)品構成很大威協(xié)；４、放射性雜質(zhì)Ra226、Th232、K40，硅酸鋯和螢石是放射性較高的原料，長石、砂、石粉等次之。 硅酸鋯生產(chǎn)和陶瓷企業(yè)生產(chǎn)一樣“穩(wěn)定壓倒一切”，高檔硅酸鋯的穩(wěn)定應包括砂源的穩(wěn)定化處理、生產(chǎn)的穩(wěn)定化處理及成品粉體性能的穩(wěn)定化處理。 硅酸鋯的原砂為鋯英石，我國高檔硅酸鋯的原砂主要為澳洲優(yōu)質(zhì)鋯英砂，美國砂源是否穩(wěn)定目前尚不明朗，南非砂硬度較大，雜質(zhì)含量稍高，越南砂和我國南海砂也有優(yōu)質(zhì)砂，砂源的穩(wěn)定性仍是一個問題。在實際生產(chǎn)時，要求對原料進行均化，而對硅酸鋯生產(chǎn)企業(yè)來說，只要采用進口澳洲大型砂礦公司產(chǎn)的優(yōu)質(zhì)鋯英砂，進廠時進行嚴格檢測，基本無須均化，因這些原料已在大型礦產(chǎn)公司進行了均化處理.